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分散机CM2000研磨分散机
分散机CM2000

特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产,拥有可调节的定转子间隙,可满足不同行业多种需求。

分散机CMO2000研磨分散机
分散机CMO2000

CMO2000实在CM2000基础上的进一步优化产品,有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至最小,来减小颗粒粒径,从而可获更细的悬浮液。

分散机CMD2000研磨分散机
分散机CMD2000

是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品,第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

分散机CMSD2000研磨分散机
分散机CMSD2000

CMSD的线速度很高,剪切间隙非常小,凹槽在每级都可以改变方向,同时,高质量的表面抛光和结构材料可满足不同行业的多种要求

分散机CMXD2000研磨分散机
分散机CMXD2000

此系列定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽,同时,每级凹槽都可以改变方向。

湿磨机CM2000湿磨机
湿磨机CM2000

此系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液生产。采用最佳几何结构的研磨定转子,可以满足不同行业的需求,同时,三级错齿的研磨转子,配合精密的定子腔,可以达到更好的分撒湿磨效果。

湿磨机CMO2000湿磨机
湿磨机CMO2000

CMO2000,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步,够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小,够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。

湿磨机CMD2000湿磨机
湿磨机CMD2000

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,可以满足不同行业的多种要求。

湿磨机CMSD2000湿磨机
湿磨机CMSD2000

CMSD2000系列高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求,同时,该系列线速度很高,剪切间隙非常小。