| CMD2000/4实验室湿法粉碎机 |
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实验室湿法粉碎机是湿磨机湿磨是干磨的一种安全而#效的替代方案，基于转子-定子原理。IKN湿磨机的输入剪切能大，可实现10 µm及以下粒度。IKN湿磨机能够处理宽粘度范围的产品。鉴于其处理能力，IKN湿磨机被用于诸多应用，如织物涂料、漆、染纸颜料和润滑脂湿磨。 |
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| CMD200O/4实验室研磨分散机 |
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实验室研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的gao速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料chao细粉碎及乳化的效果。
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| PP2000/4实验室均质机 |
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LP2000/4和PP2000/4中试型实验室均质机专为实验研发，模拟工业管线式生产流程而设计，给工业化提供可kao的数据论证。LP2000/4和PP2000/4中试型高剪切均质机与大型工业管线式量产机型配置基本相同，各种工作头的种类及相应线速度亦相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到#di |
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| LP2000/4实验室分散机 |
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LP2000/4和PP2000/4中试型实验室分散机专为实验研发，模拟工业管线式生产流程而设计，给工业化提供ke kao的数据论证。LP2000/4和PP2000/4中试型分散机与大型工业管线式量产机型配置基本相同，各种工作头的种类及相应线速度亦相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到#di |
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| CMD2000/4实验室研磨机 |
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CMD2000/4实验室研磨机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第er级由转定子组成。 |
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| CM2000/4（PP2000/4）中试型胶体磨 |
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中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的gao速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料超细粉碎及乳化的效果。 |
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